プラズマプロセス研究室 金杉 和弥 准教授
電子デバイス
電子情報システム
プラズマプロセスを利用した
新素材の創出とデバイス応用
光輝くプラズマは、固体、液体、気体に続く物質の第4の状態であり、非常に大きなエネルギーを有しています。そのため、半導体デバイス製造を中心に様々な分野でプラズマプロセスが応用されています。この研究室では、様々な環境で人工的にプラズマを生成し、各種基材に対して表面改質や薄膜コーティングなどを行うことで、新素材の創出とデバイス応用を目指しています。以下の5つの要素技術について研究を推進しています。
(1)ツイン型大気圧プラズマ表面改質技術
フレキシブル電子デバイスのベースとなる樹脂フィルムを対象に、高速・高機能処理を目指した「ツイン型大気圧プラズマ表面改質技術」に関する研究に取り組んでいます。
(2)接着剤レス接合技術
さらなる電子デバイスの小型化や軽量化、接着剤起因の課題解決を目指して、上記大気圧プラズマ表面改質技術を応用した「接着剤レス接合技術」に関する研究に取り組んでいます。モーター用電気絶縁材、包装用ガスバリアフィルムなど。
(3)液中プラズマによる活性液体生成技術
液中プラズマによる「金属微粒子含有活性液体の生成技術」に関する研究に取り組んでいます。
(4)非晶質炭素膜をベースにした微量金属徐放技術
非晶質炭素膜に金属元素を導入し、その金属元素を膜外に少しづつ放出する「微量金属徐放技術（ナノリリース）」に関する研究に取り組んでいます。医療用インプラントデバイスや抗菌・抗ウィルスデバイスなど。
(5)非晶質炭素膜による水素ガス吸着技術
貴金属レス・室温動作可能なQCM型水素ガスセンサの実現を目指して、非晶質炭素を利用した「水素ガス吸着技術」に関する研究に取り組んでいます。
ツイン型大気圧プラズマによる樹脂フィルムの表面改質
液中プラズマによる液体活性化
真空プラズマによる非晶質炭素コーティング