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平栗 健二

氏 名 平栗 健二 (ひらくり けんじ)
職 名 教授
学 位 工学博士
主担当科目 量子物理学
ディジタル回路
電気電子キャリア総合演習
技術英語I
コンピュータプレゼンテーション
平栗 健二
専門分野 電子材料工学
研究領域 半導体プロセス工学
電子デバイス工学
電子材料工学
所属学会 応用物理学会
IEEE
ダイヤモンドフォーラム特別会員
電気学会等
略 歴 1984年3月 東京電機大学工学部電子工学科卒
1987年3月 東京電機大学大学院工学研究科電気工学専攻修士課程修了
1990年3月 東京電機大学大学院工学研究科電気工学専攻博士課程修了
1990年4月 東京電機大学理工学部応用電子工学科助手
1993年4月 東京電機大学理工学部応用電子工学科専任講師
1994年4月 東京電機大学理工学部応用電子工学科助教授
1999年4月 東京電機大学理工学部電子情報工学科助教授
2004年10月 東京電機大学理工学部電子情報工学科教授(現在に至る)
1995年2月〜1996年3月 ウィーン工科大学客員教授
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代表的な論文

  • Ozeki, D. Sekiba, A. Uedono, K.K. Hirakuri, T. Masuzawa [Effect of incorporation of deuterium on vacancy-type defects of a-C:H films prepared by plasma CVD] Applied Surface Science, 330 (2015) pp. 142–147.
  • Y. Ohgoe, K. Hirakuri「Biomedical Application of Hydrogenated Amorphous Carbon (DLC) Films」Science of Machine vol. 67, no. 2, (2015) pp. 106–111.
  • Kouki Fujioka, Sanshiro Hanada, Yuriko Inoue, Keisuke Sato, Kenji Hirakuri, Kouichi Shiraishi, Fumihide Kanaya, Keiichi Ikeda, Ritsuko Usui, Kenji Yamamoto, Seung U. Kim and Yoshinobu Manome, [Effects of Silica and Titanium Oxide Particles on a Human Neural Stem Cell Line: Morphology, Mitochondrial Activity, and Gene Expression of Differentiation Markers] Int. J. Mol. Sci. 2014, 15(7):11742–11759.
  • K. Ozeki, D. Sekiba, K. K. Hirakuri, and T. Masuzawa [Antithrombogenicity of amorphous deuterated carbon film prepared by RF-plasma CVD] Nano Biomedicine 5(1) (2014) pp. 11–17.
  • 大越康晴, 平栗健二「非晶質炭素膜の生体適合性」New Diamond vol. 31, no. 1 (2014) pp. 13–17.

研究室紹介

次世代の薄型ディスプレイや高度医療を支える人工臓器への応用を目指した新素材を開発しています。半導体製造方法で作製したダイヤモンド状炭素膜やナノシリコン粒子は、魅力的な材料として大きな注目を集めています。

ナノデバイス研究室

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